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化学镀镍的孔隙率的影响因素

   化学镀镍层属于阴极镀层,孔隙率是一个非常重要的质量指标,它不仅与镀层的耐蚀性有关,而且与镀层的密度和韧性有关化学镀镍层孔隙率低是其具有良好耐蚀性的原因之一镀层越厚,孔隙率越小,相同厚度的镀镍层孔隙率比化学镀镍低得多。15μm厚的镀镍层和12μm厚的镀铜层的孔隙率仅相当于7μm的化学镀镍。化学镀镍孔隙率低的原因与其致密的非晶或微晶结构有关一般来说,当酸性镀液的厚度达到15微米时,没有孔隙。化学镀镍最常见的孔是针孔。为了防止这种现象的发生,除了加入表面活性剂外,还应加强镀液的流动或工件与镀液之间的相对运动。电镀件上部落尘表面的圆孔是由细小的悬浮颗粒引起的。砂孔是指与基材连接的深孔沙眼和气眼的区别在于它是不对称的,没有阻力原因是基材表面不合格(镀液中的杂质也可能造成孔洞),也可能使光亮的化学镀层变大。其他颗粒肿瘤,被沙眼包围,误认为是空洞,实际上是由快速沉降速度或其他固体颗粒引起的。涂层的表面孔隙率与以下因素有关。

  电镀工艺:

碱性镀液的孔隙率一般高于酸性镀液,以肼为还原剂得到的镀层高于次磷酸钠得到的镀层。添加剂的种类也有影响,镀速越快,孔隙率越高,镀液中的杂质和悬浮物不仅增加了表面粗糙度,而且增加了孔隙率;

  镀件表面粗糙度:

表面越光滑,孔隙率越小。一般来说,喷砂表面尺寸大于30微米的涂层可以是无空隙的。同样厚度的涂层如果两次电镀,其孔隙率也会降低例如,在酸性镀液中,10μm厚涂层一次孔隙率为4-5点/cm~2,两次孔隙率为1.9-2.5点/cm~2;

  热处理有助于减少涂层的孔隙率:

对于钢、铝和其他基材,化学镀镍是一种阴极镀层。如果有许多孔洞,就会形成大阴极小阳极的腐蚀电池,加速基体的腐蚀在涂层质量检测中,由于不同的孔隙率测量方法有不同的结果,所以孔隙率只用于相对比较。涂料使用前应根据使用条件进行检测除粘附法外,盐雾试验和不同浓度的二氧化硫测试也能得到可靠的结果。

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